打破日本光刻胶垄断的低位黑马被华为重金买入潜力远超中国长城！

  光刻胶是一种在光刻工艺中至关重要的材料，大多数都用在将微细图形从掩膜版转移到待加工基片上。光刻胶也被称为光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体，主要由感光树脂、增感剂和溶剂组成。

  光刻胶大范围的应用于半导体制造、显示面板（如LCD）、印制电路板（PCB）等领域。在半导体制造中，光刻胶是核心材料之一，用于集成电路芯片的细微图形加工。此外，光刻胶还被用于发光二极管（LED）、晶圆级先进封装等制程。

  光刻胶的生产技术复杂，涉及多种化学成分和工艺流程。例如，光刻胶的制备通常包括旋涂、前烘、曝光、后烘、显影等步骤。这些步骤确保了光刻胶能够精确地将掩膜版上的图形转移到衬底上，并通过后续的刻蚀工艺实现图形的最终转移。

  随着半导体制造技术的发展，对光刻胶的需求也在持续不断的增加。例如，在65nm制程中有必要进行约20次刻蚀，而在5nm制程中则有必要进行多达160次刻蚀，这明显提高了对光刻胶的需求。

  根据权威媒体的报道，全球光刻胶市场长期由日本主导，其市场占有率超过75%。然而，国内光刻胶领域的发展相对滞后，高端产品的国产化率不足10%，严重依赖日本的进口。因此，实现这一领域的国产替代显得很迫切和必要。

  专家强调，相较于光刻机，光刻胶的国产化需求更为紧迫。这是因为尽管在芯片制作的完整过程中可以探索不依赖传统光刻机的方法，但光刻胶作为核心技术之一，是国内必须攻克的关键瓶颈。

  在光刻胶技术领域，中国正经历着显著的技术进步和加快速度进行发展。从九峰山实验室到复旦大学，这些机构都在光刻胶技术方面取得了重大突破。

  此前多家晶圆厂加速验证导入公司子公司北京科华的KrF光刻胶，公司针对电子材料领域，自主开发电子级酚醛树脂，在光刻胶等领域有布局，光刻胶方面的相关树脂产品已经在客户端开展性能评价。

  国内电子气体有突出贡献的公司，也是国内唯一的全系列MO源供应商。公司自主研发的ArF光刻胶产品近日在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破，公司参股公司北京科华开发的248nm光刻胶目前已通过包括中芯国际在内的部分客户的认证。

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  子公司作为国内光刻胶全产业链的领军企业，此公司名莱蚣閦呺 添财小飞侠，免米领娶！拥有全球80%的光刻胶单体技术储备，成功打破了日本在该领域的垄断，成为首个掌握EUV光刻胶单体技术的国内公司，并获得了华为的重大投资。该公司股票价格近期刚开始上涨，已有51家机构大量持有其股票。上半年其业绩实现了71%的大幅度增长，近期两次大规模释放股份表明主力资金正在积极买入，预示着主升浪行情即将启动。

  风险提示：以上内容仅供参考和学习使用，不作为买卖依据，投资者应该依据自身情况自主作出投资决策并自行承担投资风险。市场有风险，投资需谨慎！